【康沃真空網(wǎng)】一、擬采購的貨物或者服務(wù)的說明:
擬采購一套超高真空雙室共焦多靶磁控濺射系統(tǒng)（ATC-2200-UHV,AJA International,Inc.），用于制備平整的納米級單層及多層先進薄膜材料，如多層磁性異質(zhì)結(jié)、磁性隧道結(jié)、合金薄膜、半導(dǎo)體和氧化物薄膜材料等。
二、采用單一來源采購方式的原因及相關(guān)說明:
大連理工大學(xué)物理學(xué)院和三束材料改性教育部重點實驗室擬建設(shè)一個先進的材料制備平臺，開展新型自旋電子學(xué)及先進低維材料物理和器件方面的交叉研究。而開展上述前沿科學(xué)研究的基礎(chǔ)是能夠制備高均勻性、高質(zhì)量的納米級單層和多層磁性以及非磁性薄膜。針對學(xué)科研究特點和研究方向需求，我們擬購置一套超高真空雙室共焦多靶磁控濺射系統(tǒng)。該系統(tǒng)具有如下重要性能指標，包括集成靶槍數(shù)量、靶槍構(gòu)型、襯底加熱溫度、薄膜均勻性以及沉積腔極限真空度等：
性能指標1：沉積腔單腔集成至少10個2英寸超高真空濺射靶槍；靶槍具有共聚焦（8靶）與正濺射（2靶）相結(jié)合的獨特構(gòu)型；靶槍偏轉(zhuǎn)角度可在真空中原位調(diào)節(jié)；同一靶槍可以在強磁靶槍和普通磁性靶槍之間轉(zhuǎn)換工作；強磁靶可做3mm厚磁性材料；靶槍可根據(jù)科研需求，配置在平衡，非平衡和磁性材料模式中工作；所有靶槍均采用稀土磁鐵，磁鐵和冷卻水隔離；所有靶槍可以承受200°C烘烤和10-11 Torr真空；
性能指標2：基片最高加熱溫度850°C，PID溫控精度±1°C；
性能指標3：在4英寸(100mm)基片范圍內(nèi)薄膜沉積均勻性優(yōu)于±1.5%；
性能指標4：主腔體極限真空優(yōu)于9x10-9 Torr，采用下游壓力控制；
經(jīng)調(diào)研，國內(nèi)類似設(shè)備生產(chǎn)廠家生產(chǎn)的高真空磁控濺射系統(tǒng)單腔靶位集成總數(shù)量不能滿足需求，缺乏同時具有所需的共聚焦和正濺射的靶槍集成構(gòu)型，基片加熱溫度、薄膜沉積均勻性和真空度也不能很好滿足技術(shù)指標要求。國際上類似設(shè)備廠商生產(chǎn)的高真空磁控系統(tǒng)不同在靶槍集成構(gòu)型和靶槍集成數(shù)量上同時滿足性能指標要求，同時薄膜沉積均勻性也達不到指標性能要求。而美國AJA International,Inc.公司的ATC系列磁控濺射設(shè)備滿足單腔集成靶槍數(shù)量（11個）、靶槍構(gòu)型（8+3構(gòu)型）的要求，而且還能同時滿足其它技術(shù)指標要求。
因此，只有AJA International,Inc.公司的超高真空多靶磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品能夠滿足本項目在單腔集成靶槍數(shù)量、靶槍集成構(gòu)型、基片加熱溫度技術(shù)要求的需要，所以申請采用單一來源采購方式進行采購。
三、開標：2018年12月28日8:30
聯(lián)系人： 陳思穎
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