【康沃真空網(wǎng)】近日，湖州市鶉火光電有限公司自主研發(fā)的GW級(jí)鈣鈦礦磁控濺射設(shè)備順利出貨，各項(xiàng)性能指標(biāo)均超過(guò)設(shè)計(jì)預(yù)期，并通過(guò)客戶(hù)驗(yàn)收。鶉火光電磁控濺射設(shè)備融合了全自主磁場(chǎng)電場(chǎng)耦合設(shè)計(jì)和布?xì)饧夹g(shù)，采用圓柱陰極和低損傷濺射的設(shè)計(jì)方式，能夠有效降低電極層對(duì)鈣鈦礦層的損傷。自研的氣路系統(tǒng)設(shè)計(jì)，使得氣氛均勻性得到進(jìn)一步改善，實(shí)際測(cè)試膜厚不均勻性≤5%，ITO膜層方阻≤40Ω/■（100nm厚度），具有良好的透過(guò)率（100nmITO膜層厚度，400/550/800nm波長(zhǎng)下的透過(guò)率分別超過(guò)75%、90%和80%）。另外，設(shè)備的一鍵式腔體開(kāi)合設(shè)計(jì)方式，可減少設(shè)備的維護(hù)保養(yǎng)時(shí)間，提高設(shè)備的實(shí)際生產(chǎn)效率及有效運(yùn)行時(shí)間。
此外，鶉火光電開(kāi)發(fā)出氧化鎳（NiOx）空穴傳輸層磁控濺射設(shè)備量產(chǎn)線(xiàn)，使用金屬鎳或?qū)щ姷难趸噲A柱靶材，在Ar/O2混合氣氛中沉積氧化鎳膜層。相較于傳統(tǒng)的射頻電源結(jié)合平面陰極鍍膜工藝，鶉火光電通過(guò)采用自主研發(fā)的反應(yīng)濺射控制器，能夠提高鍍膜效率和工藝穩(wěn)定性，設(shè)備具有靶材利用率高（＞80%），鍍膜效率高（沉積速度可以提高數(shù)倍），工藝穩(wěn)定性好，膜層品質(zhì)優(yōu)異等優(yōu)勢(shì)。其中玻璃基底上NiOx膜層平均透過(guò)率高達(dá)85%，三價(jià)鎳和二價(jià)鎳比例可調(diào)，膜厚/透過(guò)率/導(dǎo)電率不均勻性≤5%。同時(shí)，得益于產(chǎn)線(xiàn)鍍膜效率提升，設(shè)備成本有望進(jìn)一步下降。
