q*領(lǐng)先的真空技術(shù)供應(yīng)商普發(fā)真空將參加3月15日至17日在上海舉辦的中國半導(dǎo)體展覽會 (Semicon China)。展位參觀者可以與來自普發(fā)真空的專家們就創(chuàng)新的真空解決方案進(jìn)行交流討論。“我們很高興能在韓國半導(dǎo)體展覽會 (Semicon Korea) 和中國半導(dǎo)體展覽會 (Semicon China)上介紹重要的全新的真空解決方案。在日益變化的競爭環(huán)境中，根基扎實的普發(fā)真空處于z*佳的狀況，以便能夠作為長期及可靠的真空技術(shù)全系列供應(yīng)商行動起來，為q*的所有客戶提供服務(wù)”，普發(fā)真空半導(dǎo)體和真空鍍膜事業(yè)部總經(jīng)理 Eric Taberlet如是說。
主要展示產(chǎn)品：
A4 系列干泵
無油多級羅茨泵 A4 系列具有 100 至 2300 m3/h 的抽吸能力。這種高能效和可靠的泵非常適合應(yīng)用于半導(dǎo)體和真空鍍膜行業(yè)要求嚴(yán)苛的工藝過程中。例如，得益于耐腐蝕材料以及高氣流量，該系列泵非常適合在 CVD 工藝過程中應(yīng)用。
HiPace 2800 IT 渦輪分子泵
HiPace 2800 IT 渦輪分子泵是普發(fā)真空產(chǎn)品中一款專門適合應(yīng)用于離子注入的渦輪分子泵。渦輪分子泵成熟的轉(zhuǎn)子設(shè)計保證了對小分子氣體z*佳的抽吸能力。由此確保了主要產(chǎn)生氫氣的離子注入工藝過程中的極好的匹配。憑借 2,750 l/s 的氫氣抽吸能力，新型 HiPace 2800 IT 渦輪分子泵成為同級別產(chǎn)品中領(lǐng)先的渦輪分子泵。
智能溫控管理系統(tǒng)防止泵系統(tǒng)中的冷凝和沉積，并允許單獨的溫度設(shè)置，以提供z*佳的工藝支持。特殊涂層處理的轉(zhuǎn)子確保其能抵抗離子注入工藝中產(chǎn)生的腐蝕性介質(zhì)。得益于復(fù)合軸承的設(shè)計，前級真空側(cè)的陶瓷球軸承與高真空側(cè)的永磁徑向軸承的組合，HiPace 系列渦輪分子泵具有著極為堅固的軸承結(jié)構(gòu)。這些特性使得我們的泵使用壽命和z*大限度的得以提高。
磁懸浮渦輪分子泵 ATH 2804 M 和 ATH 3204 M
ATH-M 渦輪泵可以達(dá)到在未加熱應(yīng)用中超過 5000 sccm 的氮氣的氣流量。此外，它們還提供1,500 sccm 的氬氣的高氣流量以及在腐蝕應(yīng)用中 65 °C 的泵運行溫度。憑借z*高達(dá) 85 °C 的溫度，該類泵可投入使用于副產(chǎn)品沉積十分關(guān)鍵的高度腐蝕性應(yīng)用或敏感的工藝過程中。它們配備了集成驅(qū)動電子裝置，因而占地面積小，并且即插即用，易于安裝。帶有 DN 320 法蘭的型號的總高度不超過 400 mm。得益于新的電子裝置，該類泵可在 8 分鐘內(nèi)啟動和停止。主動式磁軸承確保泵的無磨損運轉(zhuǎn)并通過自動不平衡補償來確保泵的低振動運轉(zhuǎn)。它們無需維護(hù)，并且不需要潤滑劑潤滑。從而保證了轉(zhuǎn)子的持續(xù)穩(wěn)定性以及運行的可靠性。而且，新型 ATHM泵還具備額定轉(zhuǎn)速下低能耗和非常少的冷卻水消耗量（1°l/min）的特征。
