q*領先的真空技術供應商 Pfeiffer Vacuum (普發真空) 將于2014年2月12至14日參加韓國s*爾舉辦的 Semicon Korea 韓國半導體展覽會。屆時參觀者可到展臺與 Pfeiffer Vacuum (普發真空) 就其創新真空解決方案交流意見。“我們很高興能在 Semicon Korea 韓國半導體展覽會上隆重介紹我們重要的新型真空解決方案。我們憑借這些新開發的產品樹立整個真空行業的新標桿”，Pfeiffer Vacuum Technology AG 公司董事會成員 Matthias Wiemer 博士如此說道。Pfeiffer Vacuum (普發真空) 將在 D 廳 5730 號展臺展示新產品：
　　
　　A4 系列新型干式真空泵
　　
　　A4 系列無油多級羅茨泵的抽氣速度可達 100 至 1700 m3/h。這種節能且可靠的泵是應對半導體和鍍膜工業中苛刻工藝要求的理想選擇。耐腐蝕材料和較高的氣體流量使此系列的泵z*適用于，例如 CVD工藝。
　　
　　A 200 L 新型干式真空泵
　　
　　A 200 L 新型無油多級羅茨泵具有體積小、抽氣速度快且時間短的特點。干式真空泵適合在潔凈室內運行，z*適宜用于潔凈環境，如Load-Lock和Transfer工藝流程，以及其他無腐蝕性應用。此外，A 200 L 還易于集成到半導體生產設備中且在節能方面表現優異。
　　
　　新型磁懸浮渦輪分子泵 ATH 2804 M 和 ATH 3204 M
　　
　　ATH-M 系列磁懸浮渦輪分子泵采用一個有源 5 軸磁懸浮軸承來監測轉子的位置。這種高級軸承技術在實現高速安靜運轉的同時，也能確保長期的穩定性和可靠性。高真空泵配備上的這項技術以及優異的抽氣能力，使其成為半導體生產，特別是蝕刻工藝，以及許多其他工業應用的不二選擇。
　　
　　Pfeiffer Vacuum (普發真空) 還將出席2014年3月18 至20日上海舉辦的 Semicon China 中國半導體展覽會。
　　
　　Semicon Korea 韓國半導體展覽會地址：
　　
　　Convention & Exhibition Center (COEX)
　　
　　159 Samsung-dong, Gangnam-gu,
　　
　　Seoul 135731, Korea
　　
　　D 廳 5730 號展位

　　
　　Pfeiffer Vacuum 的 A4 系列新型干式真空泵