《光科學與應用》：中國科學家開發177納米真空紫外激光器
【康沃真空網】如果真空紫外激光可以聚焦成一個小束點，將可用于研究介觀材料和結構，并使制造納米物體具有更加的精度。
為了實現這一目標，中國科學家發明了一種177納米的VUV激光系統，可以在長焦距處獲得亞微米焦點。該系統可以重新配置用于低成本的角度分辨光電發射光譜，并可能推動凝聚態物理研究。
在《光科學與應用》(Light Science & Applications)發表的一項研究成果顯示，研究人員利用無球像差的帶板開發了一種177 nm VUV激光掃描光電發射顯微鏡系統，該系統在長焦距(~45 mm)下具有<1μm的焦斑。
基于這種顯微鏡，他們還建立了一個離軸熒光檢測平臺，在揭示材料的細微特征方面表現出優于傳統激光系統的能力。
與目前用于ARPES的具有空間分辨率的DUV激光源相比，177 nm VUV激光源可以幫助ARPES測量覆蓋更大的動量空間，具有更好的能量分辨率。
該VUV激光系統具有超長焦距(~45 mm)、亞微米空間分辨率(~760 nm)、超高能量分辨率(~0.3 meV)和超高亮度(~355 MWm-2)。可直接應用于光電發射電子顯微鏡(PEEM)、角度分辨光電子能譜儀(ARPES)、深紫外激光拉曼能譜儀等科研儀器。
目前，該系統已與上海理工大學的ARPES連接，揭示了各種新型量子材料的精細能帶特征，如準一維拓撲超導體TaSe3、磁性拓撲絕緣體(MnBi2Te4)(Bi2Te3)m族等。
