四極桿質(zhì)譜儀探測(cè)器模塊
模塊是特殊的過程監(jiān)控或氣體分析設(shè)備，其配備了各種進(jìn)氣系統(tǒng)并連接到用于排空分析儀的空運(yùn)行渦輪拖式泵站：
■ HPA 220 高壓分析儀，基于 PrismaPlus。過程壓力可達(dá)50 hPa，提供手動(dòng)和自動(dòng)進(jìn)氣系統(tǒng)
■ SPM 220 濺射工藝監(jiān)控器，基于 PrismaPlus。通過各種進(jìn)氣口選項(xiàng)，過程壓力可達(dá) 10-2 hPa 或 10 hPa
■ SPM 700 濺射工藝監(jiān)控器，基于 HiQuad。與 SPM 220具有相同的過程壓力
■ EPD 700 用于在氣相蝕刻時(shí)檢測(cè)正離子，基于 HiQuad。
過程壓力可達(dá) 10-2 hPa。
■ HPA 220 高壓分析儀，基于 PrismaPlus。過程壓力可達(dá)50 hPa，提供手動(dòng)和自動(dòng)進(jìn)氣系統(tǒng)
■ SPM 220 濺射工藝監(jiān)控器，基于 PrismaPlus。通過各種進(jìn)氣口選項(xiàng)，過程壓力可達(dá) 10-2 hPa 或 10 hPa
■ SPM 700 濺射工藝監(jiān)控器，基于 HiQuad。與 SPM 220具有相同的過程壓力
■ EPD 700 用于在氣相蝕刻時(shí)檢測(cè)正離子，基于 HiQuad。
過程壓力可達(dá) 10-2 hPa。
