在半導(dǎo)體行業(yè)中，微電子元件構(gòu)建在單晶體的平面上。在生產(chǎn)過程中，具有特定電性能（絕緣子、導(dǎo)體和具有一定導(dǎo)電性能的層）的層被應(yīng)用在彼此的頂部。由于相鄰層的不同性能，創(chuàng)造了諸如晶體管、電容器、電阻器等電子元件。
真空技術(shù)在集成電路生產(chǎn)過程中用于許多不同的工藝，如摻雜半導(dǎo)體基體材料、建立層、結(jié)構(gòu)以及在分析中。生產(chǎn)在無塵室中進(jìn)行。真空泵直接在無塵室或在無塵室下方單獨(dú)泵樓（地下一層）中的生產(chǎn)機(jī)械上使用。
操作過程對所用的泵有不同的要求。無腐蝕性、毒性或可冷凝介質(zhì)的工藝可使用沒有特別配備用于處理腐蝕性氣體的泵進(jìn)行操作。這些工藝包括
■■ 預(yù)真空鎖和傳輸室
■■ 無反應(yīng)性氣體環(huán)境的金屬 PVD（物理氣相沉積）
■■ 離子注入機(jī)（光束線和終端站）
■■ 在真空或惰性氣體環(huán)境下的退火（烘烤晶體缺陷）
■■ 晶圓檢測所使用的泵（L 系列）。
在無塵室中直接使用泵意味著，泵地下室的前真空管道和所需的任何加熱不僅可以省掉，而且可減少電導(dǎo)率損失以及可實(shí)現(xiàn)具有高過程穩(wěn)定性的可重復(fù)安裝。中型應(yīng)用可以涉及到易于冷凝但不產(chǎn)生粒子的腐蝕性化學(xué)品。這種類型的應(yīng)用包括不同的工藝，如
■■ 氧化、灰化
■■ RTP（快速熱加工；在具有高等級、使用鹵素?zé)粽彰鞯母邷剡^程中進(jìn)行的晶圓加工）
■■ 多晶硅、鋁或鎢的干蝕刻
■■ 離子注入機(jī)（源）
■■ 某些 CVD 工藝所使用的泵（P 系列）。出于安全原因，且由于靠近廢氣凈化系統(tǒng)，流程泵通常安裝在地下室。
z*苛刻的工藝（苛刻工藝、H 系列泵）使得有必要處理粒子、高腐蝕性化學(xué)物質(zhì)或反應(yīng)副產(chǎn)品和化學(xué)物質(zhì)或易于冷凝的反應(yīng)副產(chǎn)品。此類工藝的例子有：
■■ 氮化鈦的 MOCVD（金屬有機(jī)化學(xué)氣相淀積）
■■ 電介質(zhì)的各向同性干蝕刻
■■ 二氧化硅的 HDP CVD（高密度等離子體化學(xué)氣相沉積）
■■ 二氧化硅的 SACVD（亞常壓化學(xué)氣相淀積）
■■ 二氧化硅的 SACVD HARP（亞常壓化學(xué)氣相沉積，高縱橫比工藝）
渦輪分子泵組合和空運(yùn)行流程泵有時(shí)也用于這些工藝。
先前提到的用于 P 和 H 系列的工藝使用具有以下性質(zhì)的化學(xué)物質(zhì)，例如
■■ 高毒性，如砷化氫 (AsH3) 或磷化氫 (PH3)
■■ 高腐蝕性，如等離子體活化氟化氮 (NF3)、六氟化硫 (SF6)、氟碳等
■■ 高氧化性能，如等離子體活化的氧或臭氧
■■ 金屬有機(jī)物化學(xué)物質(zhì)，例如硅酸四乙酯 (TEOS)、三甲硅烷基氨 (TSA)
在定義長期穩(wěn)定性和擁有z*低成本可行解決方案時(shí)，一定要具備廣博的真空技術(shù)和真空工藝技術(shù)知識。例如，這包括對泵體工作溫度的定義，以防止因低溫產(chǎn)生的冷凝、以及在過高溫度下形成粉末或化學(xué)物質(zhì)在泵體中滯留時(shí)間過長而造成的泵堵塞。此外，精確控制溫度模式通常不僅是泵本身所必需的，而且是生產(chǎn)設(shè)備、前真空管道和排氣管道所必需的。
太陽能行業(yè)和顯示器制造中的真空工藝通常類似于半導(dǎo)體行業(yè)中所用的工藝。在這些行業(yè)領(lǐng)域，由于涂層的表面較大，但是氣體吞吐量較高，故要求泵具有相應(yīng)的高抽速。
作為一個(gè)例子：在太陽能行業(yè)中，鈍化表面的抗反射層和氮化硅層在等離子 CVD 工藝中被應(yīng)用于太陽能電池，以更好地獲得太陽光。這些不僅沉積在所需底層上，而且沉積在真空室壁上。已經(jīng)在壁上積累的層不再允許受控的真空工藝時(shí)，工藝室必須是z*近剛清洗過。這通過帶有強(qiáng)氧化劑 NF3 的原位等離子清洗來實(shí)現(xiàn)。如果泵體（在這種情況下為 AD 73KH，見第 4.6.5 節(jié)）在過低的溫度下操作，如Figure 4.10 所示，則反應(yīng)產(chǎn)物六氟硅酸銨將沉積在泵站內(nèi)。理想的過程控制不僅包括一個(gè)與過程兼容的泵和一套經(jīng)過嘗試和測試的工作參數(shù)，而且還包括：
■■ 加熱的前真空管道，以防止該部位出現(xiàn)冷凝
■■ 在垂直前真空管道的情況下，防止物體落入泵體的保護(hù)裝置（例如，在垂直下端具有盲板法蘭且與泵具有輸出水平的 T 形件）
■■ 防止粒子凸起的軟啟動閥
■■ 用于泵在高溫下連續(xù)操作（即使在前真空管道上進(jìn)行保養(yǎng)工作的過程中）的泵入口處的切斷閥
■■ 前真空管道中的泄漏探測器連接，盡可能靠近前級泵。泄漏會導(dǎo)致二氧化硅粒子的形成。
■■ 泵和排氣凈化系統(tǒng)之間的加熱排氣管道
■■ 排氣凈化系統(tǒng)
