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　　【康沃真空網(wǎng)】用真空泵將真空室壓力抽至2×10-3Pa，然后將旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)的某一靶面轉(zhuǎn)為水平，以便避開(kāi)主離子源的轟擊。將高純氬通入主離子源，待放電正常后將離子束引出。打開(kāi)擋板，離子束轟擊旋轉(zhuǎn)著的基片架上的基片，  1進(jìn)行濺射清洗。清洗時(shí)間為6rrun，真空室壓力為2×10-2待束流穩(wěn)定后將銅靶轉(zhuǎn)至與水平面呈450的位置，打開(kāi)擋板，銅就被濺射到基片上，鍍制一定時(shí)間后，關(guān)閉副離子源，合上擋板，單層銅顆粒膜的鍍制便完成了。鍍制復(fù)合膜時(shí)，可再將石英靶旋轉(zhuǎn)到水平面呈454的位置，重復(fù)上述操作。交替一次為一個(gè)周期，采用不同的周期數(shù)便可得到不同厚度的薄膜。
　　鍍制的薄膜樣品為Cu/Sioz0為了使電鏡樣品的組織結(jié)構(gòu)與具有反常光吸收特性的光學(xué)樣品完全一致，都先在基片上鍍制石英膜層，然后再鍍制銅膜，以便于透射電鏡觀測(cè)時(shí)取樣。共鍍了兩種樣品。各層鍍制的時(shí)間分別為：1號(hào)樣品S0210min，Cu30s；2號(hào)樣品Si0210min，Cu 40s。