真空系統(tǒng)或真空容器的漏氣是絕對(duì)的,不渦氣是相對(duì)的。真空檢漏技術(shù)中所指的“漏”的概念,是和z*大允許漏率的概念聯(lián)系在一起的。
對(duì)于動(dòng)態(tài)真空系統(tǒng)來說,只要真空系統(tǒng)的平衡壓力能達(dá)到所要求的真空度,這時(shí)即使存在著漏孔,也可認(rèn)為系統(tǒng)是不漏的。
對(duì)于靜態(tài)真空系統(tǒng)來說,則要求在一定的時(shí)間間隔內(nèi),系統(tǒng)內(nèi)的壓力能維持在所允許的真空度以下,同樣也可認(rèn)為系統(tǒng)是不漏的。
因此,為了滿足Pp》p(Pp為工作壓力),要求Qo不大于十分之一PpS。
靜態(tài)系統(tǒng)(密封容器)設(shè)ΣQi《Qo,如果要求在存放時(shí)間z內(nèi)容器壓力不超過Pt,則要求
各種真空裝置的z*大允許總漏率可參考表13-1來制訂。
表13-1 各種真空裝置的z*大允許總漏率
有些系統(tǒng)或零、部件,除了規(guī)定出允許的總漏率外,還要規(guī)定單個(gè)漏孔的漏率不得超過的限值。在某些場(chǎng)合下,如果漏出的物質(zhì)對(duì)環(huán)境會(huì)造成污柒時(shí),要以漏出物質(zhì)的z*大允許量來決定所允許的漏率值。