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真空電子束爐結(jié)構(gòu)原理

  電子束熔煉有三種形式:滴熔、池溶和凝殼熔煉,如圖10-87所示。圖10-87(a)為滴熔,既可垂直送料,也可橫向送料。棒料需制成電極形式,要求嚴(yán)格,功耗也較池熔大。圖10-87(b)為池熔,不需制備棒料,但原料損耗稍大,鑄錠表面較粗糙,熔化速度低,熔池較淺。圖10-87(c)為凝殼熔煉,沒(méi)有坩堝污染,可鑄成各種異型件。適用于高純金屬和活潑金屬熔煉。
真空電子束爐結(jié)構(gòu)原理
  
  電子束爐又稱電子轟擊爐,主要包括電子槍、爐體、托錠機(jī)構(gòu)及結(jié)晶器、送料機(jī)構(gòu)、真空系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、觀察裝置、電源等,如圖10-88所示。
真空電子束爐結(jié)構(gòu)原理
  
  所用電子槍的種類有軸向(皮爾斯)、橫向、遠(yuǎn)環(huán)和近環(huán)四種,多用軸向槍為主。它們的結(jié)構(gòu)布局如圖10-89、圖10-90、圖10-91所示。圖10-92為三種送料方法的復(fù)式皮爾斯槍示意圖,不僅由單槍向多槍組合熔煉方式發(fā)展,而且可適應(yīng)顆粒狀料的熔煉。圖10-93~圖10-95為各種不同的電子束爐結(jié)構(gòu)示意圖,圖10-96為電子束與熔池的布置圖。
真空電子束爐結(jié)構(gòu)原理
標(biāo)簽: 真空電子束爐真空裝置  

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