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涂層材料綜合環(huán)境模擬設備

  航天器表面涂層材料必須經受超高真空、真空紫外和近太陽紫外的輻照、低能電子和質子輻照、X射線、宇宙塵的沖擊、空間交變的溫度等環(huán)境條件的考驗才能應用。綜合環(huán)境對材料性能影響要比單一條件嚴重得多,并要求“原位測量”,這樣才能比較準確地反映出空間環(huán)境對材料性能的影響。  
涂層材料綜合環(huán)境模擬設備

  圖10-68為這種設備的簡圖。獲得超高真空所用的主是濺射離子泵和鈦升華泵,預抽用分子篩吸附泵。近太陽紫外用汞氙燈模擬,其光譜范圍為0.2μm~0.4μm;功率為5kW;真空紫外用氫燈模擬,波長范圍為0.1μm—0.26μm,氫燈熱流量為1mW/c㎡,大于4個太陽常數(shù);電子輻照模擬,是用一個電子槍來提供的,電子束流可調,其值為0~300mA,電子槍電壓為0—20kV;質子源能量為130keV,是用射頻離子源產生質子;X射線源采用了一個40kV—90kV的X射線組合源。
標簽: 涂層材料環(huán)境模擬真空裝置  

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