離子束刻蝕設(shè)備一般采取臥式結(jié)構(gòu)（也有立式結(jié)構(gòu)）。臥式結(jié)構(gòu)離子束水平方向噴射，刻蝕的濺射物大部分落在真空室底部，能減少濺射材料的重新沉積。立式結(jié)構(gòu)相反，刻蝕質(zhì)量難以保證。

　　刻蝕設(shè)備的真空室一般采用圓筒形結(jié)構(gòu)，用1Cr18Ni9Ti不銹鋼焊接而成。z*好是在兩邊都開門以便裝卸工件、檢修和清洗離子源和快門等，關(guān)在適當(dāng)位置設(shè)置觀察窗以便觀察刻蝕進(jìn)行的情況。大門為蝶形封頭或平面形，開啟與關(guān)閉應(yīng)輕便靈活。真空室內(nèi)壁應(yīng)拋光，內(nèi)表面光滑，便于清洗真空室。