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離子束刻蝕設(shè)備的主要性能

2014-06-04 06:10:00  閱讀()

　　離子束刻蝕設(shè)備的主要性能一般包括：整機(jī)特性、離子源特性、真空系統(tǒng)性能、工件臺(tái)性能?？刂葡到y(tǒng)特性等。表10-36給出了蘭州物理研究所生產(chǎn)的LSK型、DSI型、RIBE型離子束刻蝕設(shè)備主要技術(shù)性能。

離子束刻蝕設(shè)備的主要性能
離子束刻蝕設(shè)備的主要性能
標(biāo)簽： 離子束刻蝕  

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