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真空裝置:離子束刻蝕工作原理

  離子束刻蝕的基本原理是利用離子束轟擊固體表面生產(chǎn)的濺射現(xiàn)象來剝離加工幾何圖形的。一般由真空室、離子源、工作臺、快門、真空抽氣系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、電源和電氣系統(tǒng)等主要部分組成。圖10-38為離了束刻蝕機工作原理圖。

真空裝置:離子束刻蝕工作原理
  
  該設(shè)備在正常工作時,s*先是待真空室壓力抽至6×10-3Pa或更低時,可以調(diào)節(jié)Ar氣流量使真空室壓力保持在1×10-2Pa~6×10-2Pa(如果需用輔助氣體氧,則可以按一定比例與之混合),然后啟動離子源各電源,使離子源正常工作。從離子源引出一定能量和密度的離子束,被中和器發(fā)射的電子中和后穿過快門和光闌孔,轟擊工作臺的工件進行濺射刻蝕,工件表面有制備溝槽的掩膜,這樣,裸露部分就被刻蝕掉。掩膜部分就被保留下來,從而在工件表面形成所需的溝槽圖形。等深度溝槽的刻蝕終點是根據(jù)工件的刻蝕速率和溝槽深度由計算機自動控制快門開啟時間加以控制的,深度加權(quán)溝槽柵的刻蝕則是根據(jù)晶片的刻蝕速率和深度加權(quán)函數(shù),用計算機程序控制步進電機驅(qū)動平移工件臺通過光闌孔時的停留時間加以控制的。
標(biāo)簽: 真空裝置離子束刻蝕  

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