本標(biāo)準(zhǔn)適用于壓力在1×10-4Pa—5×10-1Pa范圍的真空濺射鍍膜設(shè)備(以下簡(jiǎn)稱設(shè)備)。
(1)型號(hào)與基本參數(shù)
設(shè)備的型號(hào)應(yīng)符合JB/T7673_95的規(guī)定。設(shè)備的基本參數(shù)應(yīng)符合表10-29的規(guī)定。
(2)極限壓力
?、僭囼?yàn)條件:
a.鍍膜室內(nèi)為空載(即不放被鍍物品);
b.真空測(cè)量規(guī)管應(yīng)裝于鍍膜室靠近排氣口位置上;
c.允許在抽氣過程中用設(shè)備本身配有的加熱或轟擊裝置對(duì)鍍膜室進(jìn)行除氣。
②測(cè)試方法:按“2.真空鍍膜設(shè)備通用條件”中的此項(xiàng)參數(shù)測(cè)試方法。
(3)鍍膜室恢復(fù)真空抽氣時(shí)間
①試驗(yàn)條件:同極限壓力測(cè)試。
②測(cè)試方法:按“2.真空鍍膜設(shè)備通用條件”中的此項(xiàng)參數(shù)測(cè)試方法。
(4)升壓率
①試驗(yàn)條件:同極限壓力測(cè)試。
②測(cè)試方法:按“2.真空鍍膜設(shè)備通用條件”中的此項(xiàng)參數(shù)試驗(yàn)方法。
(5)濺射電流的變化率
設(shè)備在鍍膜過程中,陰極穩(wěn)定工作后,測(cè)得濺射電流在3min范圍內(nèi)(若鍍膜過程少于3min,則在整個(gè)鍍膜過程內(nèi))的變化值,并按下式計(jì)算變化率
(6)測(cè)量用儀表設(shè)備
①測(cè)量極限壓力、鍍膜室恢復(fù)真空抽氣時(shí)間、升壓率所使用的真空計(jì)應(yīng)為設(shè)備本身配套者,并應(yīng)在有效期限內(nèi)。
②測(cè)量濺射電流的變化率所用的電流表應(yīng)為設(shè)備本身配套者,并應(yīng)在有效期限內(nèi)。
真空濺射鍍膜設(shè)備概述
2014-05-30 06:19:00 閱讀()
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