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真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備概述

  (1)適用范圍
  
  本標(biāo)準(zhǔn)適用于極限壓力在7×10-3Pa—7×10-4Pa范圍的真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備(以下簡(jiǎn)稱設(shè)備)。
  
  (2)型式與基本參數(shù)
  
  設(shè)備主要由鍍膜室、真空機(jī)組、保護(hù)裝置及電氣控制裝置組成。
  
  設(shè)備的基本參數(shù)應(yīng)符合表10-28的規(guī)定。
真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備概述
  
  (3)試驗(yàn)方法
  
  ①鍍膜室極限壓力。鍍膜室內(nèi)為空載(即不安放被鍍物品),用設(shè)備配套的真空系統(tǒng)對(duì)鍍膜室進(jìn)行抽氣(在抽氣過程中,允許用設(shè)備本身配有的加熱或轟擊等裝置對(duì)鍍膜室進(jìn)行除氣),24h內(nèi)測(cè)量鍍膜室壓力,在30min內(nèi)變化不超過5%時(shí)(此時(shí)各動(dòng)密封部位應(yīng)處于靜止?fàn)顟B(tài)),取其達(dá)到的z*低值即為極限壓力。
  
  ②升壓率。將設(shè)備抽至極限壓力后,再抽4h(允許除氣),然后關(guān)閉鍍膜室所有與真空機(jī)組相通的閥門,待鍍膜室壓力升至P1(1Pa)時(shí),開始計(jì)時(shí),經(jīng)30min,記錄壓力p2,然后按下式計(jì)算升壓率

真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備概述
  
  ③鍍膜室抽氣時(shí)間。將設(shè)備抽至極限壓力后,關(guān)閉鍍膜室所有與真空機(jī)組相通的閥門,對(duì)鍍膜室進(jìn)行放氣,并打開鍍膜室暴露大氣15min,然后關(guān)閉鍍膜室進(jìn)行抽氣。從抽氣開始至到達(dá)規(guī)定真空度所需的時(shí)間為鍍膜室抽氣時(shí)間。
  
  ④電阻蒸發(fā)器通電試驗(yàn)。鍍膜室進(jìn)行清潔處理后,裝入電阻蒸發(fā)器及蒸鍍材料,然后抽空鍍膜室至壓力低于工作壓力時(shí),接通蒸發(fā)電源,逐漸加熱,使蒸發(fā)電流達(dá)到JB/T 6922 - 93規(guī)定(即每個(gè)蒸發(fā)器加熱器應(yīng)在電壓為4V—20V,電流為50A—130A狀態(tài)下正常工作),此時(shí)蒸發(fā)器應(yīng)達(dá)白熾狀態(tài)。蒸發(fā)結(jié)束后,蒸發(fā)器上的蒸鍍材料應(yīng)全部蒸發(fā)。
  
 ?、蒎兡な夜ぜ婵狙b置有效加熱區(qū)加熱均勻度的測(cè)量。啟動(dòng)真空系統(tǒng)抽空到工作壓力,接通烘烤裝置電源,當(dāng)溫度達(dá)到z*高烘烤溫度并保持10min后,在被鍍工件與烘烤裝置之間、距工件表面10mm處的有效加熱區(qū)內(nèi),用熱電偶或其它相當(dāng)?shù)臏囟葌鞲衅鳒y(cè)量3~5點(diǎn)溫度(能反映z*大溫差),各點(diǎn)應(yīng)同時(shí)測(cè)量(允許使用轉(zhuǎn)換開關(guān))。然后求各測(cè)量點(diǎn)溫度與平均溫度z*大相對(duì)偏差作為加熱均勻度,其計(jì)算按下式

真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備概述
標(biāo)簽: 真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備真空鍍膜  

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