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真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件

  本標(biāo)準(zhǔn)適于壓力在10-4Pa—10-3Pa范圍內(nèi)蒸發(fā)類、濺射類、離子鍍類真空鍍膜設(shè)備(以下簡稱設(shè)備)。
  
  (1)設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)
  
  設(shè)備的主要技術(shù)參數(shù)見表10-27。

真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件
  
  (2)極限壓力的測定
  
 ?、僭囼?yàn)條件:
  
  a.鍍膜室內(nèi)為空載(即不安放被鍍件);
  
  b.真空測量規(guī)管應(yīng)裝于鍍膜室壁上或z*靠近鍍膜室的管道上;
  
  c.所用真空計應(yīng)為設(shè)備本身的配套者,并應(yīng)在有效期內(nèi);
  
  d.允許在抽氣過程中用設(shè)備本身配有的加熱轟擊裝置對鍍膜室進(jìn)行除氣;
  
  e.對具有中擱板、上卷繞室和鍍膜室的卷繞鍍膜設(shè)備,應(yīng)在兩室同時抽氣時對鍍膜室的壓力進(jìn)行測試。
  
  ②測試方法:在對鍍膜室連續(xù)抽氣24h之內(nèi),測定其壓力的z*低值,定為該設(shè)備的極限壓力。當(dāng)壓力變化值在0.5h內(nèi)不超過5%時,取測量表讀數(shù)z*高值為極限壓力值,且鍍膜室內(nèi)各旋轉(zhuǎn)密封部位處于運(yùn)動狀態(tài)。
  
  (3)抽氣時間的測定
  
 ?、僭囼?yàn)條件:同極限壓力測定的試驗(yàn)條件之a(chǎn)、b、c、d。
  
  ②測試方法:設(shè)備在連續(xù)抽氣條件下,在鍍膜室內(nèi)達(dá)到極限壓力之后,打開鍍膜室15min,再關(guān)閉鍍膜室對其再度抽氣至表10-31中所規(guī)定的壓力值所需的時間,定為該設(shè)備的抽氣時間。
  
  (4)升壓率測定
  
  ①試驗(yàn)條件:同極限壓力測定。
  
  ②測試方法:設(shè)備在連續(xù)抽氣24h之內(nèi)使鍍膜室內(nèi)達(dá)到穩(wěn)定的z*低壓力之后,關(guān)閉與鍍膜室相連接的真空閥,待鍍膜室壓力上升至P1(1Pa)時,開始計時,經(jīng)1h后記p2,然后按下式計算升壓率:

真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件
標(biāo)簽: 真空鍍膜技術(shù)條件  

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