真空鍍膜:減壓CVD法制作絕緣膜
2014-05-26 06:18:00 閱讀()
減壓CVD法可制備Si02膜、PSG(硅酸磷玻璃)膜、BSG(硅酸硼玻璃)膜、AsSG(硅酸砷玻璃)膜、Si3H4膜及Al203等絕緣膜。主要用于半導(dǎo)體器件制造上。表10-20給出了絕緣膜種類、制作方法及用途。圖10-31為熱壁反應(yīng)室結(jié)構(gòu)簡圖，減壓裝置的工作壓力為10Pa～1000Pa。
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