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半導體生產中采用的CVD原料

  CVD原料一般應選擇常溫下是氣態的物質或具有較高蒸氣壓的液體或固體,原料有氫化物、鹵化物、有機金屬化合物等。表10-19給出了制備CVD薄膜原料及其反應生成物。

半導體生產中采用的CVD原料
標簽: 半導體CVD  

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