卷繞式鍍膜機(jī)30年來有了較大的發(fā)展，鍍膜產(chǎn)品廣泛用于裝飾、包裝、電容器等領(lǐng)域中，可鍍光學(xué)、電學(xué)、電磁、導(dǎo)電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%～2%，紙含水量更大，一般為5%-7%，經(jīng)涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故鍍膜室由初始的單室發(fā)展到目前雙室或多室結(jié)構(gòu)。蒸發(fā)源可以是電阻式、感應(yīng)式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結(jié)構(gòu)應(yīng)用普遍，其優(yōu)點(diǎn)是：①可以蒸鍍放氣量較大的紙基材，并能保障鍍膜質(zhì)量。紙放出的大量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小，使放出來的氣體不易進(jìn)入蒸鍍室中；②單室結(jié)構(gòu)必須配置較大的排氣系統(tǒng)才能保障蒸鍍時(shí)的工作壓力，而雙室結(jié)構(gòu)中的蒸鍍室氣體量較小，可配小型抽氣機(jī)組，使設(shè)備成本降低，并節(jié)約能源；③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣，可縮短抽氣時(shí)間。
　　
　　卷繞式真空鍍膜機(jī)在結(jié)構(gòu)上除了有一般鍍膜機(jī)所有的結(jié)構(gòu)外，必須有一個(gè)為了實(shí)現(xiàn)連續(xù)鍍膜而設(shè)置的卷繞機(jī)構(gòu)。由于被鍍基體是紙或塑料，放氣量較大，因此，在真空室的結(jié)構(gòu)上又有單室和多室之分，卷繞式雙室真空鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)如圖10-10所示。
　　
　　卷繞機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)中應(yīng)考慮的幾個(gè)問題：
　　
　?、偬岣呔砝@速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運(yùn)動(dòng)的線速度，它是卷繞機(jī)構(gòu)的一個(gè)主要技術(shù)指櫟。國(guó)內(nèi)早期鍍膜機(jī)卷繞速度只有10m/min，現(xiàn)在也只有80m/min～120m/min，在國(guó)外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達(dá)到300m/min，德國(guó)L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機(jī)已達(dá)到600m/min，可見隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展，卷繞速度有待提高。
　　
　?、趲罨牡木€速恒定問題。這一問題也很重要，因?yàn)橹挥芯砝@機(jī)構(gòu)保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點(diǎn)對(duì)制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。
　　
　?、蹘罨牡呐芷推瘃迒栴}。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過程中，起褶和發(fā)生偏斜，嚴(yán)重時(shí)會(huì)造成基材的斷裂，使生產(chǎn)中斷，既影響生產(chǎn)效率，又浪費(fèi)材料。因此，在卷繞機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)中應(yīng)充分考慮這一問題。
　　
　　卷繞鍍膜機(jī)真空抽氣系統(tǒng)分上室下室兩組，下室為蒸鍍室，要求真空度高，主泵多為油擴(kuò)散泵。上室為基材卷繞室，要求真空度較低，為羅茨泵機(jī)組或擴(kuò)散泵一羅茨泵一機(jī)械泵組。一般蒸鍍室要達(dá)到的真空度為1x10-3Pa—2×10-3Pa，而工作壓力為1×10-2Pa—2×10-2Pa，而卷繞室真空度通常較蒸鍍室低一個(gè)數(shù)量級(jí)。有時(shí)卷繞鍍膜機(jī)以增擴(kuò)泵（油擴(kuò)散泵的一種）為主泵，它的極限壓力雖然不及油擴(kuò)散泵，但其抽速范圍向高壓方向延伸一個(gè)數(shù)量級(jí)，非常適宜此類蒸發(fā)的鍍膜過程。
　　
　　目前國(guó)內(nèi)卷繞式鍍膜機(jī)蒸發(fā)源多采用坩堝蒸發(fā)，其材質(zhì)有氮化硼、石墨、鉬等。氮化硼由于電學(xué)及熱學(xué)性能好，使用壽命長(zhǎng)，因而較為普遍地應(yīng)用于卷繞鍍膜機(jī)中。每個(gè)坩堝的加熱功率為6kW—8kW，加熱電壓為10V—12V。坩堝數(shù)量由基材幅寬來確定。輻寬愈寬坩堝數(shù)量愈多。幅寬500mm時(shí)4只坩堝，800mm時(shí)7只坩堝，1300mm時(shí)12只坩堝。坩堝分布是不均勻的，中間部分間距大些，在基材邊緣處間距小，有的z*外側(cè)坩堝與基材幅寬邊緣重合。