真空蒸發(fā)鍍膜原理圖如圖10-1所示。
將膜材置于真空室中,通過(guò)蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā),蒸氣的原子或分子從蒸發(fā)源表面逸出,由于空間氣體分子的平均自由程大于真空室的線性尺寸,因此很少與其它分子或原子碰撞,可直接到達(dá)被鍍的基片表面上,凝結(jié)后形成薄膜。
在蒸發(fā)過(guò)程中的真空條件是:真空室中由膜材蒸發(fā)出來(lái)的原子(分子)平均自由程應(yīng)大于蒸發(fā)源與基片之間的距離。
真空蒸發(fā)鍍膜原理
2014-05-09 06:40:00 閱讀()
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