真空系統及材料表面常見的污染源有哪些
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2017-11-10 閱讀
日常環境中，污染物無處不在。因此真空系統及真空材料存放使用等過程中其表面就難以避免地會受到污染。所以真空系統及材料的清洗凈化就成為真空應用中的一項日常工作。那真空應用中這些常見的污染源又有哪些呢，我們一起來看看。
真空應用中，真空系統及材料表面常見的污染物包括塵埃、碳氫化物、氯化物、硫化物、氟化物等等。它們可以是液體，也可以是氣體或者固體，以膜或者散粒的形式存在于真空系統或材料的表面。對這些污染物來源進行大致歸類的話主要包括以下幾種：
1、環境空氣中的塵埃和拋光殘渣及其他有機物等。
2、長期放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物。
3、各類在加工、裝配、操作時沾染的潤滑劑、切削液、真空油脂等。
4、來源于操作時的手汗、吹氣時的水汽以及唾液等水基類污染物。
5、清洗時的殘余物質以及上面已經提到的手汗等帶來的酸堿鹽類物質。
真空系統及材料表面的污染可能會影響到系統在工作穩定性，比如高溫、低溫以及電子、離子、重粒子轟擊時等。因此在真空工藝過程前需要對真空系統及材料進行凈化清洗。
