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展會上EDWARDS展示領先的真空設備
標簽: 真空設備
2014-03-20  閱讀

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  q*領先的真空設備和尾氣處理系統制造商及相應增值服務供應商Edwards公司將在3月18-20日于上海新國際博覽中心(Shanghai New International Expo Centre,SNIEC)舉辦的SEMICON China展會上展示一系列高性能真空,包括z*近推出的STP-iXA4506大容量(large-capacity)渦輪分子泵(turbomolecular pump,TMP)。對于目前世界z*大的半導體集成電路市場,SEMICON China展會是設備制造商展示其產品和技術的重要活動。
  
  Edwards公司總部設在英國,擁有完善成熟的q*品牌。Edwards公司真空和尾氣處理技術致力于在整個半導體制造領域中減少污染、降低能耗和運營成本,這些領域包括LED、太陽能光伏(solar PV)和平板顯示(flat-panel display,FPD)等。
  
  Edwardsq*市場半導體行業經理Maiku Boger表示:“中國的半導體行業繼續表現出強勁增長,尤其是受到國內生產的推動。中國的戰略目標包括新能源和環境的可持續性,因此,太陽能光伏(PV)、FPD和化合物半導體等都屬于中國非常具有競爭力的廣泛工業領域。Edwards公司的真空和尾氣處理系統是滿足這個巨大市場供應鏈的絕對核心,從2005年開始,業界公認中國已經是世界z*大的半導體芯片市場。”
  
  Edwards的真空和尾氣處理系統緩解了一系列環境威脅,例如半導體生產工藝中產生的酸性和腐蝕性氣體,Edwards可幫助用戶實現碳排放為負值(carbon-negative)。Edwards通過一系列創新但已經過驗證的泵和系統來提供高能效解決方案,所有這些方案都僅需要相對較低的資本投入和維護成本。
  
  Edwards在中國的主要目標就是按照客戶的特定要求來提供定制的真空解決方案和增值服務,以便幫助他們應對在先進工藝和設備制造中遇到的挑戰。Edwards能夠在需要尾氣處理的場合提供“交鑰匙”系統方案。
  
  Edwards將在上海展會展示新型STP-iXA4506大容量(large-capacity)渦輪分子泵(turbomolecular pump,TMP),該新發布的產品經專門設計為成本敏感的半導體、FPD、LED和太陽能電池板制造商節省投資。STP-iXA4506具有高速度(4300 l/s N2)和高排氣量(高達4300 sccm N2),并且結合了高效抽吸輕、重氣體的能力,因而成為廣泛的大容量、高流量應用的理想選擇,這些應用包括半導體蝕刻、LCD蝕刻、玻璃鍍膜、太陽能物理氣相沉積(physical-vapour deposition,PVD)和PVD鍍膜。
  
  Edwards在展位上展出的其它產品包括iH600、iXM1200 / 1800、STP iXA3306和 iXH645H:
  
  iH600干泵為PECVD和LPCVD等復雜困難工藝提供了高可靠性,這些工藝存在著粉塵顆粒、易冷凝和腐蝕性副產品。
  
  iXM1200 / iXM1800是Edwards公司s*次在中國展出的優化節能型設備,具有超低功率輸入。它還具有同類z*佳的粉體處理和耐腐蝕性,達到z*高可靠性并延長泵的使用壽命。
  
  STP-iXA3306磁浮式渦輪分子泵帶有完全集成的板載控制器,無需泵和控制單元之間使用連接電纜。它還消除了安裝空間和成本,上述附件是傳統分體式(rack-type)控制單元所需要的。
  
  iXH645H干泵已針對MOCVD工藝進行了優化,該工藝用于LED制造和其它形式的化合物半導體生產。iXH泵的先進技術可使維護需求z*小化并使泵的運行時間z*大化,幫助降低運營成本。