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       真空鍍膜技術常用的有蒸發鍍、濺射鍍和離子鍍，本文我們來了解一下離子鍍膜技術，雖然基本的原理都是離子化后成膜，但常用的還可以分為三類，分別為蒸發離子鍍膜、多弧離子鍍膜、濺射離子鍍膜。 蒸發離子鍍膜是真空鍍膜機在高真空狀態下輸入氬氣，以工件作為陰極，電子產生輝光放電使氬氣成氬離子，氬離子在電場的作用下飛向工件，使工件表面原子電離，利用電阻加熱的方法把靶材蒸發向上流動，沉積于工件表面成膜。 多弧離子鍍膜是真空鍍膜機通過壓強的轉變和脈沖高壓的作用下觸發電弧放電，產生熱量使靶材蒸發并電離，由于工件接入電壓比電弧接入電壓低，在電壓差的作用下，靶材離子飛向工件并沉積成膜。 濺射離子鍍膜是真空鍍膜機輸入氬氣，電子與氬氣相撞發生輝光放電電離出氬離子，氬離子在電場的作用下再撞擊靶材濺射出靶材原子或離子，z*后沉積于工件表面成膜。 歸納來說，離子鍍膜技術就是通過把靶材汽化后成離子狀態，沉積到工件表面，堆積成膜。