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真空工藝對環(huán)境的要求
標(biāo)簽: 真空工藝
2010-04-23  閱讀

來源:真空技術(shù)網(wǎng)  作者:真空技術(shù)網(wǎng)

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       真空工藝對環(huán)境的要求

       常規(guī)真空工藝對環(huán)境的要求
       所謂常規(guī)真空工藝系指沒有特殊要求的真空工藝過程,這類真空裝置(設(shè)備)對真空衛(wèi)生的要求:
       (1)凡是處于真空中的真空設(shè)備零件,都要求無積存的污染源,表面無塵埃,無鐵屑、無銹蝕;
       (2)真空設(shè)備的真空室表面要光滑、無松軟組織和氣孔、無內(nèi)焊縫等影響真空的缺陷;
       (3)高真空設(shè)備中,真空室內(nèi)的運動部件不得用機油作潤滑劑,要用飽和蒸氣壓低的擴散油、硅油作潤滑劑;法蘭、觀察窗的密封部件要涂以高真空油脂;
       (4)真空設(shè)備一般應(yīng)在溫度為15~30℃,相對濕度不高于70%的清潔空氣流通的環(huán)境中工作,冷卻水進(jìn)水溫度不高于25 ℃。電真空工藝對環(huán)境的要求電真空結(jié)構(gòu)材料除具有良好的機械性能和加工性能外,還要滿足其他性能的要求,即容易除氣、低的飽和蒸氣壓、一定的化學(xué)穩(wěn)定性、一定的純度和清潔度、合適的輻射能力等。所以電真空工藝具有特殊性,對清潔處理要求是極為嚴(yán)格的,應(yīng)z*大限度清除或減少零件的污染。真空鍍膜工藝對環(huán)境的要求 真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要,基片進(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理,達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的?;砻嫖廴緛碜粤慵诩庸ぁ鬏?、包裝過程所粘附的各種粉塵、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清洗方法將其去掉。