【康沃真空網(wǎng)】鍍膜種類(lèi)劃分情況
鍍膜按類(lèi)型劃分，首先可以分為：干式鍍膜和濕式鍍膜兩種。
其中干式鍍膜主要有：真空蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、真空離子鍍膜3種
真空蒸發(fā)鍍膜可細(xì)分為：
電阻蒸發(fā)鍍膜（適用于蒸發(fā)低熔點(diǎn)材料，如金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等）
電子束蒸發(fā)鍍膜（可蒸發(fā)難熔金屬，如鉬、鎢、鍺、二氧化硅、氧化鋁等）
高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)鍍膜（蒸發(fā)速率達(dá)，蒸發(fā)源溫度穩(wěn)定，操作簡(jiǎn)單，對(duì)材料純度要求較寬。）
電弧加熱蒸發(fā)鍍膜（特別適用于熔點(diǎn)高，同時(shí)具有一定導(dǎo)電性的材料，如石墨；裝置簡(jiǎn)單，較廉價(jià)，缺點(diǎn)是放電產(chǎn)生的微米級(jí)顆粒會(huì)影響膜的一致性）
激光束蒸發(fā)鍍膜（可蒸發(fā)任何高熔點(diǎn)材料）
反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜（蒸鍍難熔化合物，如氟化鎂、氧化鋇、氧化錫等）
濺射鍍膜可分為：
直流二極濺射：僅適用于導(dǎo)電膜
直流三極濺射：僅適用于導(dǎo)電膜
直流四極濺射：僅適用于導(dǎo)電膜
射頻濺射：采用射頻電源，可鍍氧化硅，氧化鋁材料
對(duì)向靶濺射：可提高沉積速率，制取磁性鐵、鎳和其他磁性合金膜
離子束（IBS）濺射：利用離子源發(fā)出離子
磁控濺射：
碳硫分析儀在直流二極濺射的基礎(chǔ)上，在靶材后面安放了磁鋼，使用弧光發(fā)
電，用于蒸發(fā)源。
真空離子鍍膜可分為：
陰極電弧離子鍍：
提高了沉積速率和膜的質(zhì)量；
還可生成致密均勻，
附著力優(yōu)良的化合
物膜
空心陰極離子鍍：使用空心陰極等離子電子束
多弧離子鍍
濕式鍍膜可分四種：
電鍍
陽(yáng)極氧化
化學(xué)鍍
化學(xué)轉(zhuǎn)化膜處理
