真空鍍膜——電鍍靶材與濺鍍靶材的處理的區別
【康沃真空網】隨著人們生活水準的提高以及科學技術的不斷發展，人們對耐磨、耐腐蝕、耐高溫的裝飾鍍膜用品的性能要求越來越高了，當然，鍍膜還可以美化這些物件的色彩。下面講解一下電鍍靶材與濺鍍靶材的處理的區別。
電鍍
電鍍的原理與電解精煉銅的原理是一致的。電鍍時，一般都是用含有鍍層金屬離子的電解質配成電鍍液；把待鍍金屬制品浸入電鍍液中與直流電源的負極相連，作為陰極；用鍍層金屬作為陽極，與直流電源正極相連。通入低壓直流電，陽極金屬溶解在溶液中成為陽離子，移向陰極，這些離子在陰極獲得電子被還原成金屬，覆蓋在需要電鍍的金屬制品上。
濺鍍
原理主要利用輝光放電，將氬氣離子撞擊靶表面，靶材的原子被彈出，而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好，但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電，將氬氣離子撞擊靶材表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面，這個沖擊將使靶材的物質飛出而沉積在基板上形成薄膜。
