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真空鍍膜設(shè)備的系統(tǒng)構(gòu)成部分
標(biāo)簽: 真空鍍膜
2022-06-22  閱讀

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  【康沃真空網(wǎng)真空鍍膜機是目前制作真空條件應(yīng)用最為廣泛的設(shè)備,目前生活中使用到的物品都離不開真空鍍膜行業(yè)。但是許多人都不知道真空鍍膜的主要構(gòu)成部分,接下來讓我們一起來認(rèn)識一下真空鍍膜機的主要構(gòu)成部分。其中有:真空室、真空獲得部分、真空測量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統(tǒng)、機械傳動部分、加熱及測溫部分、離子蒸發(fā)及濺射源、水冷系統(tǒng)。

  1、真空室

  涂層設(shè)備主要有連續(xù)涂層生產(chǎn)線及單室涂層機兩種形式,不銹鋼材料制造、氬弧焊接、表面進行化學(xué)拋光處理,真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭接口。

  2.真空獲得部分

  在真空技術(shù)中,真空獲得部分是重要組成部分。真空的獲得不是一種真空設(shè)備和方法所能達到的,必須將幾種聯(lián)合使用,如機械泵、羅茨泵、分子泵系統(tǒng)等。

  3.真空測量部分

  真空系統(tǒng)的真空測量部分,就是要對真空室內(nèi)的壓強進行測量。像真空泵一樣,沒有一種真空計能測量整個真空范圍,人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計。如熱偶計,電離計,皮拉尼計等等。

  4.電源供給部分

  靶電源主要有直流電源、中頻電源、脈沖電源、射頻電源(RF),常見的電源廠商有AE,ADL,霍廷格等

  5.工藝氣體輸入系統(tǒng)

  工藝氣體,如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮氣(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等,一般均由氣瓶供應(yīng),經(jīng)氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計、電磁閥、壓電閥,然后通入真空室。這種氣體輸入系統(tǒng)的優(yōu)點是,管路簡捷、明快,維修或更換氣瓶容易。各涂層機之間互不影響。也有多臺涂層機共用一組氣瓶的情況,這種情況在一些規(guī)模較大的涂層車間可能有機會看到。它的好處是,減少氣瓶占用量,統(tǒng)一規(guī)劃、統(tǒng)一布局。缺點是,由于接頭增多,使漏氣機會增加。而且,各涂層機之間會互相干擾,一臺涂層機的管路漏氣,有可能會影響到其他涂層機的產(chǎn)品質(zhì)量。此外,更換氣瓶時,必須保證所有機臺都處于非用氣狀態(tài)。

  6.機械傳動部分

  涂層要求周邊必須厚度均勻一致,因此,在涂層過程中須有三個轉(zhuǎn)動量才能滿足要求。即在要求大工件臺轉(zhuǎn)動(I)的同時,小的工件承載臺也轉(zhuǎn)動( II),并且工件本身還能同時自轉(zhuǎn)(III)。在機械設(shè)計上,一般是在大工件轉(zhuǎn)盤底部中央為一大的主動齒輪,周圍是一些小的星行輪與之嚙合,如果要實現(xiàn)產(chǎn)品自轉(zhuǎn)的話,一般用撥叉撥動工件自轉(zhuǎn)。

  7.加熱及測溫部分

  涂層設(shè)備一般有不同位置的加熱器,用熱電偶測控溫度。但是,由于熱電偶裝夾的位置與工件位置不同,溫度讀數(shù)不可能是工件的真實溫度。要想測得工件的真實溫度,有很多方法,可以在工件上裝高溫試紙或熱偶計。

  8.離子蒸發(fā)及濺射源

  多弧鍍的蒸發(fā)源一般為圓餅形,俗稱圓餅靶,也有長方形的多弧靶。靶座中裝有磁鐵,通過前后移動磁鐵,改變磁場強度,可調(diào)整弧斑移動速度及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度,要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之間的高導(dǎo)電、導(dǎo)熱性,還可以在靶與靶座之間加錫墊片。

  9.水冷系統(tǒng)

  一般由冷水塔,冰水機,水泵等組成。

  真空鍍膜機都離不開以上的任何一個零件,有這些零件一臺真空鍍膜機才算完整,才能正常的運行。