【康沃真空網】真空鍍膜技術不僅能夠滿足人們對于產品外觀的需求，而且在鍍膜過程中不會對周圍環境產生較大的污染。
真空鍍膜技術始于20世紀30年代，當前真空鍍膜技術已從實驗室走向了工廠，實現了大規模生產，在光伏、建筑、裝飾、通訊、照明等工業領域得到了廣泛的應用。
真空鍍膜技術是指在真空環境下，通過蒸發金屬等固體材料，使其氣態化并附著到產品物件的表面，形成一層均勻的薄膜，增強產品的抗腐蝕性、美觀性等。從整體來看，真空鍍膜技術較傳統的電鍍方法，在成本、環保、產品質量、裝飾效果、能源消耗等方面具有較大優勢，是一門擁有光明發展前景的新興技術。
真空鍍膜設備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE 分子束外延，PLD 激光濺射沉積等很多種。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。
真空鍍膜主要有兩種方法：熱蒸發鍍膜法和磁控濺射法。真空鍍膜在材料上的選擇較傳統鍍膜方式更加自由，最常用的有金屬單質、合金和金屬化合物。目前，市場上用金屬鋁作為鍍膜材料的產品眾多，主要是因為金屬鋁具有較低的熔點并且能夠很好地對光進行反射，同時作為金屬，鋁還具有較好的耐腐蝕性能，延展性優良等優點，在鍍膜工程中，操作方便，對被鍍產品影響較小。高純度的鋁對比其他金屬單質來說，在價格上也比較低。
隨著科學技術不斷更新，技術瓶頸的不斷突破，真空鍍膜技術也會不斷地變革更新，在未來會與微電子器件及納米技術等高科技相結合，形成一套相關的檢查方法和實用技術，而電子束蒸發源將會成為真空鍍膜技術中最常用的鍍膜材料加熱方法和發展趨勢。據相關數據統計：2021年全球PVD真空鍍膜設備市場規模241億元，預計未來持續保持平穩增長的態勢，到2028年市場規模將接近316億元。
總之，真空鍍膜技術不僅可以降低污染，保護環境，節約資源，而且還能夠滿足人們對產品外觀的要求。在未來，隨著真空鍍膜技術的不斷推廣和國家政策的進一步傾斜，真空鍍膜技術會歷久彌新，不斷改進，日趨完善，同時也會具有更加廣闊的市場前景。
