真空鍍膜設備基本技術要求
1、設備中的真空管道、靜態密封零部件（法蘭、密封圈等）的結構形式，應符合GB/T6070的規定。
2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規管，分別測量各部位的真空度。當發現電場對測量造成干擾時，應在測量口處安裝電場屏蔽裝置。
3、如果設備使用的主泵為擴散泵時，應在泵的進氣口一側裝設有油蒸捕集阱
4、設備的鍍膜室應設有觀察窗，應設有擋板裝置。觀察窗應能觀察到沉積源的工作情況以及其他關鍵部位。
5、離子鍍沉積源的設計應盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。
6、合理布置加熱裝置，一般加熱器結構布局應使被鍍工件溫升均勻一致。
7、工件架應與真空室體絕緣，工件架的設計應使工件膜層均勻。
8、離子鍍膜設備一般應具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩定。
9、真空室接不同電位的各部分間的絕緣電阻值的大小，均按GB/T11164-1999中的4.4.6
10、其他注意事項
1）環境溫度：10-30oC
2）相對濕度：不大于75%
3）冷卻水進水溫度：不高于25oC
4）冷卻水質：城市自來水或相當質量的水。
5）供電電源：380V三相50Hz或220V單相50Hz(由所用電器需要而定)；電壓波動范圍：342-399V或198-231V；頻率波動范圍：49-51Hz。
6）設備所需的壓縮空氣，液氮，冷水、熱水等的壓力、溫度，消耗量等，均應在產品使用說明書中寫明。
7）設備周圍環境整潔，空氣清潔，不應有引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵埃或氣體存在。
