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對特殊的非平面基片-半球表面上鍍制薄膜的膜厚均勻性進行了理論分析研究。s*先， 推導了半球面靜止時球面各點的膜厚方程以及此時半球面能夠鍍膜的區域。然后推算了半球表面沿通過球心豎直方向的軸轉動后球面各位置處的膜厚方程， 另外當蒸發源與球心的水平距離小于半球面半徑時， 存在一定區域無法鍍膜， 對該區域進行了理論計算。z*后通過計算相對膜厚分析了半球表面膜...
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