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采用多弧離子鍍在高速鋼基底上沉積TiAlN薄膜。利用掃描電鏡(SEM)觀測薄膜的表面形貌；用EDS分析薄膜表面的成分；用表面輪廓儀測試薄膜的厚度并結合沉積時間計算出沉積速率；用維氏硬度儀測量薄膜的硬度；用XRD表征薄膜的微觀結構。結果表明，隨著偏壓峰值的增大，表面大顆粒逐漸減少，致密性逐漸變好，薄膜硬度也隨之增加。沉積參數對薄膜成分有影響，偏壓峰值對...
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