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采用多元等離子體浸沒離子注入與沉積裝置制備Ti-Al-Si-N涂層，借助X射線衍射儀、X射線光電子能譜、透射電子顯微鏡、納米探針和原子力顯微鏡等系統研究涂層界面微結構與力學性能。研究結果表明：Ti-Al-Si-N涂層具有Si3N4界面相包裹TiAlN納米晶復合結構，Si元素摻雜誘發涂層發生明顯晶粒細化效應。隨涂層Si含量增加，TiAlN晶粒尺寸顯著降...